Baza de machiaj pentru protectie solara SPF50, 30 ml, Altruist

Descriere YEO:

Baza de machiaj pentru protectie - Disponibil la springfarma.com

Pe YEO găsești Baza de machiaj pentru protectie de la ALTRUIST, în categoria Frumusete si ingrijire.

Indiferent de nevoile tale, Baza de machiaj pentru protectie solara SPF50, 30 ml, Altruist din categoria Frumusete si ingrijire îți poate aduce un echilibru perfect între calitate și preț, cu avantaje practice și moderne.

Preț: 53.9 Lei

Caracteristicile produsului Baza de machiaj pentru protectie

• Brand: ALTRUIST
• Categoria: Frumusete si ingrijire
• Magazin: springfarma.com
• Ultima actualizare: 04-05-2025 02:27:00

Comandă Baza de machiaj pentru protectie Online, Simplu și Rapid

Prin intermediul platformei YEO, poți comanda Baza de machiaj pentru protectie de la springfarma.com rapid și în siguranță. Bucură-te de o experiență de cumpărături online optimizată și descoperă cele mai bune oferte actualizate constant.

Descriere magazin:
Beneficii Baza de machiaj pentru protectie solara SPF50, Altruist:Hipoalergenic;Non-comedogenic;Fara parfum si parabeni;Rezistent la apa;PPD 48;Fara lacrimi sau usturime a ochilor;Nu se scamoseaza;Nu contine ocotocrilena si nici un alt filtru care sa provoace usturimea ochilor. Pentru toate tipurile de ten, inclusiv pentru cele sensibile.Ingrediente: Aqua, C12-15 Alkyl Benzoate, Diethylamino Hydroxybenzoyl Hexyl Benzoate, Butyl Methoxydibenzoylmethane, Glycerin, Dicaprylyl Ether, Ethylhexyl Salicylate, Bis-Ethylhexyloxyphenol Methoxyphenyl Triazine, Hexylene Glycol, Diethylhexyl Butamido Triazone, Ethylhexyl Triazone, Sodium Stearoyl Glutamate, Phenylbenzimidazole Sulfonic Acid, Microcrystalline Cellulose, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Xanthan Gum, Decylene Glycol, Cetearyl Alcohol, Glyceryl Stearate, Tocopheryl Acetate, Cellulose Gum, Sodium Hydroxide.Mod de utilizare: Pentru un efect optim aplicati peste un strat subtire de Altruist Fluid Hidratant cu Acid Hialuronic si asteptati 4-5 minute inainte de aplicarea fondului de ten.