DescriereFormula sa, fără agenți surfactanți care pot agresa pielea, are o acțiune purifiantă, fără a determina uscăciunea excesivă a tegumentului și iritații cutanate.
Clătiți apoi cu apă călduță sau curățați zona cu ajutorul unor servețele umede.
ProducatorSolartiumMod de prezentareFlacon 150 ml.
MASK® Clean favorizează regenerarea epidermului afectat de tratamentele locale agresive de natură chimică (retinoizi, peroxid de benzoil, acid azelaic, acid salicilic, etc.) sau mecanică (dermabraziune, laser, etc.), utilizate frecvent în tratamentul acneei.
Mask® Clean purifiant facial este îmbogățit și cu CMβGlucani, un principiu activ natural obținut prin biofermentare ce favorizează regenerarea barierei cutanate de la nivelul epidermului și protecția naturală a pielii.
CompozitieAqua, Glycerin, Disodium Laureth Sulfosuccinate, Sodium Lauryl Sulfoacetate, Hydroxyethilcellulose, Caprylyc/Capryl Glucoside, Urea Peroxide, Polysorbate 20, Carboxymethyl Betaglucan, Allantoin, Etidronic acid, Parfum.
Mod de administrareDistribuiți o cantitate mică de gel pe zona interesată și masați ușor pentru a elimina impuritățile. În contact cu pielea, Mask® Clean eliberează peroxid de hidrogen și uree: primul are o acțiune eficientă împotriva bacteriilor, iar ureea, datorită proprietăților sale keratolitice și emoliente, calmează pielea după fiecare curățare și stimulează regenerarea cutanată.
Conține Peroxid de Uree, un agent antimicrobian cu spectru larg care acționează contra bacteriilor GRAM+ si GRAM- care determină leziunile acneice.
DescriereFormula sa, fără agenți surfactanți care pot agresa pielea, are o acțiune purifiantă, fără a determina uscăciunea excesivă a tegumentului și iritații cutanate
